见习记者 牛思若

10月12日晚间，苏大维格披露深交所下发的关注函。针对其在互动易平台对投资者提问有关“光刻机”相关回复涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述的行为启动纪律处分程序。

模糊用词引发当日涨停

根据深交所下发的关注函显示，苏大维格在互动易平台对投资者提问的有关“光刻机”相关回复受到媒体和投资者广泛质疑，并引起股价大幅波动，涉嫌存在不真实、不准确、不完整情形及误导性陈述，市场影响恶劣，交易所将对苏大维格及相关违规当事人启动纪律处分程序。

9月14日午间，苏大维格在投资者互动平台中对光刻机出货的描述“光刻机已向国内龙头芯片企业销售。”，引发了市场的强烈关注，当日股价涨停20%，成交金额高达15亿元。次日，深交所随即下发关注函。

事实上，苏大维格方面在回复中未能充分考虑到部分投资者可能对光刻机的技术路线、相关技术的具体应用领域等情况不了解，也未详细说明公司光刻设备的具体类型、主要的应用领域、与行业龙头企业的差距，以及客户主要用途等信息；同时，也未说明相关设备收入占公司收入比重较低，未充分提示相关风险。

此前，苏大维格2023半年报中也曾提及，“公司光刻设备已向国内某芯片龙头企业实现销售，并向国内厂商提供应用于IC芯片投影式光刻机的核心部件定位光栅尺产品”。其与在投资互动平台所回复整体内容表述类似，但是“光刻设备”一词变为“光刻机”。

随后，在10月8日，苏大维格回复深交所关注函时表示：“一般所称的光刻机是有掩模光刻机中的投影式光刻机，与公司所生产的激光直写光刻机不属于同一技术路线。”

资料显示，泛半导体光刻技术可分为直写光刻和掩模光刻。其中，直写光刻精度较低，多用于IC后道封装、低世代线平板显示、PCB等领域；掩模光刻目前主流形式为投影式，光刻精度高，可用于IC制造的前道工艺，后道先进封装，以及中高世代线的FPD生产。目前，掩模光刻技术主要由ASML等海外厂商掌握，而直写光刻在国内还有芯碁微装等多家公司突破。

在9月18日-10月12日这近13个交易日，苏大维格股价区间累计跌幅达29.09%，同期大盘涨幅0.24%。截至10月12日收盘，苏大维格股价报24.82元/股，当日收跌2.36%，总市值为64.45亿元。

此前曾多次使用“光刻机”一词

值得注意的是，这并非苏大维格第一次使用光刻机的表达，其首次将“光刻机”一词写入日常公告披露中为2015年年报，公告中表示“公司依靠先进的技术研发能力实现了从源头的光刻机制造，到个性化图形的微纳结构设计，原版开发及批量生产模具的翻制，完全实现自我供给。”而在此后2019——2022年光刻机一词均多次在年度报告中被提及，于8月25日发布的2023年半年度报告中，全文使用光刻机一词6次。

尽管频频蹭“光刻机”概念，但是苏大维格业绩却大幅下滑，2021年亏损3.49亿元，2022年亏损2.79亿元。2023年上半年，苏大维格实现营业收入7.88亿元，较上年同期下滑10.47%。

苏大维格表示，目前公司生产的光刻设备主要为自用，外销收入占公司整体销售收入的比重不足 3%，占比较小，对公司经营业绩没有重大影响，未来能否进一步扩大应用领域和销售规模存在较大不确定性。

编辑：舰长

审核：许闻

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